单从四季度来看，阿斯麦实现营收50亿欧元，毛利率达到54.2%，净利润18亿欧元；新增订单金额71亿欧元。期内，该公司共出货82台光刻系统，环比上季度增加3台；其中EUV光刻系统11台，比上个季度减少4台；在所有出货中，73%光刻机被用于逻辑工艺制造，27%的光刻机用于存储芯片生产。
阿斯麦2021年四季度财报截图
从出货地来看，中国台湾依然是阿斯麦的最大市场，四季度有51%的光刻系统发往当地，占比环比提升5个百分点；韩国是该公司第二大市场，同期有27%的光刻系统发往当地，占比环比下降6个百分点；中国大陆是阿斯麦第三大市场，四季度有22%的光刻系统向当地出货，占比提升12个百分点。2021年三季度，美国和日本分别在阿斯麦出货中占比10%和1%，但四季度占比均意外降为0，具体原因尚不清楚。
阿斯麦光刻机出货信息
过去几年，阿斯麦一直在研发高数值孔径（0.55 NA）EUV光刻机。这种EUV光刻机采用最新的光学设计，具有更高的分辨率（由13nm升级到8nm），可以使芯片面积缩小1.7倍，晶体管密度增加2.9倍。与目前的0.33 NA EUV光刻机相比，0.55 NA光刻机可以显著提高良率、降低成本和缩短生产周期。当然，0.55 NA光刻机的价格也相当昂贵，每台售价约为3亿美元（约合人民币19亿元），比0.33 NA光刻机售价高出一倍。
目前，台积电等生产7nm-5nm制程的芯片采用的都是0.33 NA EUV光刻机，而第一代0.55 NA光刻机TWINSCAN EXE：5000还在研发过程中，预计2023年上市。早在2018年，英特尔就率先向阿斯麦下单第一代0.55 NA EUV光刻机，该公司也有望成为首个0.55 NA EUV光刻机的使用者，并将其用于3nm及以下制程。
阿斯麦NXE3400型EUV光刻机（0.33 NA） 图源：阿斯麦官网
在本次披露财报时，阿斯麦透露，该公司在2021年四季度收到一份TWINSCAN EXE：5000光刻机订单，累计订单达到5份。与此同时，该公司还在2022年初收到下一代高数值孔径EUV光刻机TWINSCAN EXE:5200的首份订单，下单的还是英特尔。从路线图来看，TWINSCAN EXE：5200预计最快2024年底投入使用，2025年开始大规模应用于2nm甚至以下先进制程的生产。国外曾有分析师直言，“我敢打赌，英特尔为这一权利花了很多钱，因为他肯定不是唯一想先得到这种机器的公司”。