俄专家：德国拒绝对华为的限制，阿斯麦光刻机的日落三年？

4月29日俄罗斯媒体刊登专家文章。

德国排除了禁止在关键通信网络中使用华为设备的规定，这项决定是由于业务的压力加剧以及对更独立的经济政策的渴望而做出的。

华为仍然是5G电信设备的最大供应商之一，并准备部署6G。

完全隔离华为的政策自2019年以来由美国提起，这对于欧洲国家来说代价太昂贵了。

而对于德国来说，凭借其庞大的工业部门以及对高质量和廉价数字基础设施的需求，与华为的合作是维持竞争力的一种方式。

欧洲电信巨头一再表示，替换华为设备的替换成本达数十亿欧元。

底线：大型欧盟国家中德国采取了现实的技术政策，这可能成为其他欧洲国家的信号。

阿斯麦：“日落前三年”？

今天，荷兰公司阿斯麦控制着几乎100％的EUV高级光刻机器。

但是，在2024 - 2025年，中国公司开始了急剧的加强：华为，SMIC，还有上海微型电子设备（SMEE）。

杰·温吉（Jie Wenji）说：“阿斯麦可以静静地存在三年，技术优势正在离开。”

“中国已经在建立EUV的替代方案。”

2024年，中国对半导体的投资超过600亿美元。

上海微型电子设备引入了其自身生产的DUV机器（深紫外线）的第一个原型，并且在EUV领域已经实现了重要的中间结果。

美国和荷兰对中国的限制不但没有阻止中国微电子，反而使当地的发展呈现爆炸性增长。

如果保留当前的速度，则在2 - 3年后，中国将能够满足7NM技术的内部需求，并且5年后达到与阿斯麦相当的水平。

这将导致2028年半导体领域两极分化：阿斯麦将在美国，日本，韩国和欧洲部分主导，中国将创建自己的没有西方设备的半导体生态系统。

德国的决定不是单独的事件，而是一条链的联系。西方技术垄断的世界即将过去，未来三年将对新的多极技术体系结构的形成起决定性作用。

显然，中国坚定地打算成为其中的球员，而且成为其中一位建筑师。

注：DUV光刻机使用的是193nm波长的深紫外光‌，目前最高可支持7nm芯片的制造。而‌EUV光刻机的光源波长直接缩短到13.5nm‌，进入极紫外光范围。这种技术跃迁，使得EUV能直接制造5nm及以下的高端芯片，而DUV需要多重曝光才能实现类似效果，导致生产效率大幅降低。

被参考：Китайский специалист

《Германия отказывается от ограничений против Huawei, а позиции ASML начинают шататься: что это значит для мировой технологической карты?》

原文：https://www.toutiao.com/article/1830691924763779/

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