先是清华大学突破EUV核心的光源技术，之后是上海微电子从国产90nm光刻机完成了到28nm光刻机的技术升级。

近日，上海微电子再次传出好消息，自研的深紫光28nm光刻机已通过技术认证与检测，将于年内正式量产商用。据业内人士分析，这款深紫光光刻机与ASML的DUV光刻机，曝光精度在同一水平线上。

要知道，英特尔使用DUV光刻机完成了10nm工艺芯片的制造，台积电则是通过多次曝光的先进工艺，使用该设备，率先完成了7nm芯片的量产。也就是说，有了上海微电子的28nm光刻机，我们将完全有可能从28nm成熟芯片工艺，一举迈入7nm先进工艺的行列。

“焦虑”的不止ASML

据统计，上海微电子在国内光刻市场的份额占比在这两年迅速攀升，目前高达80%，随着28nm光刻机的下线，这个数值将会继续升高。

对全球最大的光刻巨头ASML来说，这简直就是个“晴天霹雳”，要知道它先后数次示好我国市场，就是不希望有朝一日被排除在外。但是，不好意思，我们最需要的时候你不能供货，现在我们有了，你着急也怪不得我们。

其实，相比ASML，美科技界更加坐立不安。

我们实现光刻自主，ASML丢失的无非是我国光刻市场份额。但是，我们实现芯片自主，老美丢失的将是全球半导体市场的主导权。

我国是全球最大的芯片消费市场，近几年的年均进口值突破了3000亿，占全球比例的30%，海外所有先进的芯片企业几乎都要围着我们转。我们多花点钱进口芯片设备以实现发展、外企多赚点钱实现更多的盈利，这本来是互惠双赢的好事。

但不安分的老美非要整“芯片断供”这么一出，直接打破了平衡局面，结局就是，我们实现自给自足，美系企业生产的设备、制造的芯片无人问津。谁的损失更大、更惨，一目了然