俄罗斯首套65纳米制程等离子化学沉积与刻蚀设备完成研发

2025年12月10日，俄商业日报《公报》(Vedomosti)报道，俄罗斯Element集团旗下科研机构——科学研究所微电子设备研究所（НИИМЭ）与薄膜技术研究所（НИИТМ）——已完成俄罗斯首套等离子化学沉积与刻蚀集群系统的研发。该设备将支持在200毫米与300毫米晶圆上实现65纳米拓扑标准的集成电路制造。相关企业公布了这一进展。

这两家研究所位列全球该设备研发制造领域专业能力前五强。

项目主要承包商为НИИМЭ，负责洁净生产设施建设、原型设备安装调试、工艺流程开发及测试验证。НИИМЭ作为核心协作单位，则主导了设备研制并参与测试工作。

俄罗斯工业和贸易部副部长瓦西里·什帕克指出，300毫米晶圆65纳米级设备将满足俄罗斯微电子产业未来需求。他强调，该平台的模块化设计具有特殊价值——既可在现有设备上验证工艺，也为向更精细工艺过渡奠定基础。

Element集团说明，该设备既适用于现有生产线，也兼容规划中采用200毫米晶圆技术标准的生产设施。НИИМЭ总经理亚历山大·克拉夫佐夫与НИИМЭ总经理米哈伊尔·比留科夫均表示，国产等离子化学沉积与刻蚀集群系统的问世，是实现俄罗斯微电子技术独立的关键一步。

什帕克曾于11月25日指出，俄罗斯电子仪器产业发展项目面临331亿卢布资金缺口。自2024年起，项目资金缩减了数百亿卢布，这可能导致截至2025年底，数十个项目进展滞后。

据副部长透露，2024年项目计划拨款433亿卢布，实际仅到位237亿卢布；2025年计划400亿卢布，实际支出157亿卢布。2026年计划拨款300亿卢布，2027年与2028年各计划250亿卢布。什帕克预测，到2025年底，研发项目延期数量将超过60项。

原文：toutiao.com/article/1851186810943500/

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