外媒：中国初创企业称无需ASML设备即可低成本量产光子芯片

中国杭州初创企业Prinano近日宣布，已成功验证在8英寸硅晶圆上批量生产光子芯片的新方案，并声称完全绕开传统深紫外（DUV）光刻设备，制造成本可降至传统方案的约十分之一。

据介绍，Prinano与深圳立卓科技合作，利用自主研发的PL-AS真空空气垫纳米压印光刻（NIL）设备，以及定制双层压印材料和核心工艺，实现了8英寸光学芯片晶圆生产。该技术支持晶圆级光子芯片制造，可应用于光通信、传感器和激光雷达等领域。

这一进展受到关注的原因在于，荷兰光刻机巨头ASML的部分DUV设备以及更先进的EUV（极紫外）光刻系统已被限制向中国出口。如果纳米压印技术能够成熟应用，或为中国半导体产业提供新的技术路径。

不过，业内对纳米压印光刻的实际价值仍存在争议。质疑主要集中在大规模量产能力、良品率表现，以及其是否适用于除光子芯片之外的其他半导体芯片制造。

事实上，Prinano早在2025年8月就曾宣布，已向国内客户交付中国首套半导体纳米压印光刻系统，被视为推动该技术商业化的重要尝试。此次实现8英寸光子芯片晶圆生产，则意味着其在产业化道路上又迈出一步，但未来能否在更广泛的芯片制造领域形成竞争力，仍有待市场和技术验证。

原文：toutiao.com/article/1867445763536971/

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