东方晶源官网截图
而阿斯麦官网显示，该公司产品除光刻机之外，也包括用于提高芯片良率和质量的计算光刻，“如果没有计算光刻，芯片制造商就不可能制造出最新的技术节点”。
有资深半导体行业人士告诉观察者网，在光刻过程中，光的衍射以及感光层中的物理和化学效应会使光刻机试图刻出的图像变形，因此需要计算光刻进行校准和优化。简单来说，计算光刻类似EDA中的算法，是一种晶圆厂需要购买的服务，如果曝光图形跟实际掩膜（Mask）有差异，可以通过计算光刻提前修正掩膜确保得到想要的图形。一般来说，如果晶圆厂觉得阿斯麦的计算光刻不够好，也可以选择第三方提供的产品，二者由此便会形成竞争。
阿斯麦官网截图
荷兰媒体无理攻击中国，遭阿斯麦反对
本次阿斯麦除指控东方晶源可能侵权外，还特意提到东方晶源与XTAL存在关联，而阿斯麦与XTAL的知识产权纠纷发生在数年之前，彼时还曾引发一些外媒对中国的无理攻击。
事情要从2016年说起。当年5月，阿斯麦向美国法院起诉美国公司XTAL，指控XTAL盗取阿斯麦美国子公司Brion的某些源代码和知识产权，并且称XTAL诱导和教唆阿斯麦员工在离职前秘密为其工作。
根据官方介绍，Brion是计算光刻概念的提出者，该公司2007年被阿斯麦收购。而XTAL于2014年由两名曾在Brion工作过的员工创立，致力于提高半导体制造过程中的良率，业务也包括计算光刻。据当时的外媒报道，XTAL在成立后发展迅猛，而阿斯麦在失去一个关键客户的合同后开始对XTAL产生怀疑。
Brion相关介绍
阿斯麦向法院提出的指控称，在XTAL成立1年后，两名阿斯麦员工辞职加入该公司，这两名员工将Brion的商业机密复制到存储设备上带走，用于促进XTAL的业务，并且他们随后还与两名仍在Brion工作的前同事一起窃取机密信息。